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　　半導體業態勢迎來爆發式生產，未來芯片也會迎來長期的發展，而污水處理量也同步增加，大量的氨氮廢水需要處理，這個問題是個難題，半導體廢水氨氮超標處理方法有哪些呢？　

　　常規半導體氨氮處理的方法

　　1、蒸汽汽提法，蒸氨工藝將焦化工序產生的化工分離廢水和剩余氨水進行蒸餾，通過蒸氨處理后，降低其NH3—N含量，為下一步生化處理進行必要的前期處理。

　　2、利用微生物的新陳代謝功能，將污水中呈溶解或膠體狀態的有機物分解氧化為穩定的無機物質，使污水得到凈化，常用的有活性污泥法和生物膜法。

　　3、空氣吹脫法，吹脫工藝是將廢水中的離子態銨(NH4+)，通過調節pH值轉化為分子態氨，隨后被通入的空氣或蒸汽吹出。

　　常規半導體氨氮處理效率達標方法

　　為更好推進芯片發展，對于污水處理一定要有效率！而常規處理后污水一般為100ppm-500ppm之間，當工藝降幅無法達到排放標準時，投加氨氮去除劑是一種效率的方法。

　　氨氮去除劑在污水中投加能利用強氧化作用達到分解氨氮，5分鐘反應，把污水中的氨氮從水體中快速去除，達標到0.02mg/L~50mg/L是沒問題的。